Le livre est actuellement en rupture de stock
Paramètres
En savoir plus sur le livre
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
Achat du livre
Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie, Stephan Altmannshofer
- Langue
- Année de publication
- 2019
Nous vous informerons par e-mail dès que nous l’aurons retrouvé.
Modes de paiement
Personne n'a encore évalué .